欢迎来到钼电极_钼坩埚_钨钼制品厂家-洛阳兴图钼钨科技有限公司
联系电话:13938862072中文 | ENGLISH

新闻资讯
当前位置:网站首页 > 新闻资讯

新闻资讯
<<返回上一页

钨钼制品中的钼靶材的特点都有哪些

发布时间:2022-09-13   点击: 2747

  由于钼具有高熔点、高电导率、较低的比阻抗以及较好的耐腐蚀性和环保性等特色,所以钼靶材被广泛应用于电子行业,例如平面显示器、薄膜太阳能电池的电极和配线资料,现在就让北京瑞弛的小编和大家一起了解一下关于钨钼制品中钼靶材特点都有哪些?

  1、高纯度钼靶材

  钼靶材的纯度越高,溅射薄膜的性能越好。一般钼溅射靶材的纯度至少需求达到99.95%。但随着LCD行业玻璃基板尺度的不断进步,要求配线的长度延伸、线宽变细,为了确保薄膜的均匀性以及布线的质量,对钼溅射靶材的纯度的要求也相应进步。因而,根据溅射的玻璃基板的尺度以及运用环境,钼溅射靶材的纯度要求在99.99%-99.999%甚至更高。

  2、高致密度钼靶材

  溅射镀膜的过程中,致密度较小的溅射靶受炮击时,由于靶材内部孔隙内存在的气体突然开释,形成大尺度的靶材颗粒或微粒飞溅,或成膜之后膜材受二次电子炮击形成微粒飞溅,这些微粒的出现会降低薄膜质量。为了削减靶材固体中的气孔,进步薄膜性能,一般要求溅射靶材具有较高的致密度。对钼溅射靶材而言,其相对密度应该在98%以上。

  3、晶粒尺度

  一般钼溅射靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。试验研讨标明,细微尺度晶粒靶的溅射速率要比粗晶粒快,而晶粒尺度相差较小的靶,淀积薄膜的厚度散布也较均匀。

  4、结晶方向

  由于溅射时靶材原子简单沿原子六方严密排列方向择优溅射出来,因而,为达到溅射速率,常通过改变靶材结晶结构的方法来增加溅射速率。靶材的结晶方向对溅射膜层的厚度均匀性影响也较大。因而,获得-必定结晶取向的靶材结构对薄膜的溅射过程至关重要。

  5、导热导电

  钨钼制品厂家告诉大家,一般钼溅射靶材溅射前有必要与无氧铜(或铝等其他资料)底盘衔接在一起,使溅射过程中靶材与底盘的导热导电状况良好。绑定后有必要通过超声波查验,确保两者的不结合区域小于2%,这样才干满足大功率溅射要求而不致掉落。

  6、钼靶材性能

  纯度:纯钼≥99.95%,高温钼≥99%(增加稀土元素)

  密度:≥10.2g/cm3

  熔点:2610℃

  规格:圆形靶,板靶,旋转靶

  适用环境:真空环境或惰性气体保护环境,钨钼制品中的纯钼较高,耐高温1200度,钼合金较高耐高温1700度。

  以上内容来源于洛阳兴图钼钨科技有限公司官网:http://www.lyxingtu.com



免责声明:本站部分图片和文字来源于网络收集整理,仅供学习交流,版权归原作者所有,并不代表我站观点。本站将不承担任何法律责任,如果有侵犯到您的权利,请及时联系我们删除。